国家标准《碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的测定 二次离子质谱法》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行，主管部门为国家标准化管理委员会。
主要起草单位中国电子科技集团公司第四十六研究所、有色金属技术经济研究院有限责任公司、山东天岳先进科技股份有限公司。
主要起草人马农农 、何友琴 、陈潇 、刘立娜 、何烜坤 、李素青 、张红岩 。
标准号： GB/T 41153-2021
发布日期： 2021-12-31
实施日期： 2022-07-01
标准类别： 方法
中国标准分类号： H17
国际标准分类号： 77.040
| 77 冶金 |
| 77.040 金属材料试验 |
归口单位： 全国半导体设备和材料标准化技术委员会
执行单位： 全国半导体设备和材料标准化技术委员会
主管部门： 国家标准化管理委员会
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