磁控溅射检测

本专题涉及磁控溅射的标准有12条。

国际标准分类中，磁控溅射涉及到有色金属产品、珠宝、真空技术、表面处理和镀涂、陶瓷、半导体材料、电学、磁学、电和磁的测量。

在中国标准分类中，磁控溅射涉及到贵金属及其合金、、、、、、稀有高熔点金属及其合金、检验专用设备、加工专用设备。

中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会，关于磁控溅射的标准

GB/T 34649-2017 磁控溅射用钌靶

中国团体标准，关于磁控溅射的标准

T/SZS 4034-2021 贵金属首饰表面磁控溅射镀铑工艺技术规范

T/GVS 002-2021 高精度磁控溅射镀膜设备通用技术要求

T/CSEA 15-2021 真空磁控溅射镀银工艺及质量检验

T/ZZB 0639-2018 氧化锌铝磁控溅射靶材

T/CAS 304-2018 磁控溅射硅靶材及绑定靶材

国际标准化组织，关于磁控溅射的标准

ISO 21164:2018 金属和其他无机涂层 - 用于工程目的的直流磁控溅射银涂层 - 涂层附着力的测量

行业标准-有色金属，关于磁控溅射的标准

YS/T 718-2009 平面磁控溅射靶材.光学薄膜用铌靶

YS/T 719-2009 平面磁控溅射靶材.光学薄膜用硅靶

行业标准-电子，关于磁控溅射的标准

SJ/T 10478-1994 磁控溅射设备通用技术条件

SJ/T 31273-1994 EVP-13480型磁控溅射机完好要求和检查评定方法

SJ/T 31067-1994 S枪磁控溅射台完好要求和检查评定方法