本专题涉及x射线能谱测量的标准有8条。
国际标准分类中,x射线能谱测量涉及到分析化学、光学设备。
在中国标准分类中,x射线能谱测量涉及到基础标准与通用方法、电子光学与其他物理光学仪器、化学。
GB/T 25188-2010 硅晶片表面超薄氧化硅层厚度的测量 X射线光电子能谱法
GB/T 17723-1999 黄金制品镀层成分的X射线能谱测量方法
ISO 22581:2021 表面化学分析X射线光电子能谱测量扫描的近实时信息含碳化合物表面污染的识别和校正规则
ISO 14701:2018 表面化学分析 - X射线光电子能谱 - 氧化硅厚度的测量
ISO 14701:2011 表面化学分析.X射线光电子能谱.二氧化硅厚度的测量
BS ISO 14701:2018 表面化学分析. X射线光电子能谱学. 二氧化硅厚度测量
BS ISO 14701:2011 表面化学分析.X射线光电子能谱学.二氧化硅厚度测量
GOST R ISO 16243:2016 确保测量一致性的国家系统. 表面化学分析. X射线光电子能谱 (XPS) 的记录和报告数据
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