GB/T 42263-2022 硅单晶中氮含量的测定 二次离子质谱法

硅单晶中氮含量的测定 二次离子质谱法

Determination of nitrogen content in silicon single crystal—Secondary ion mass spectrometry method

国家标准《硅单晶中氮含量的测定 二次离子质谱法》 由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行 ，主管部门为国家标准化管理委员会。

主要起草单位 中国电子科技集团公司第四十六研究所 、有色金属技术经济研究院有限责任公司 。

主要起草人 马农农 、何友琴 、李素青 、陈潇 、刘立娜 、何烜坤 。

相近标准(计划)

 硅单晶中氮含量的测定 二次离子质谱法

20202892-T-469  硅单晶中氮含量的测定 二次离子质谱法

 碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的测定 二次离子质谱法

20202826-T-469  碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的测定 二次离子质谱法

GB/T 41153-2021  碳化硅单晶中硼、铝、氮杂质含量的测定 二次离子质谱法

20173544-T-469  氮化镓材料中镁含量的测定 二次离子质谱法

 氮化镓材料中镁含量的测定 二次离子质谱法

GB/T 39144-2020  氮化镓材料中镁含量的测定 二次离子质谱法

20011277-T-610  硅单晶

GB/T 12962-2005  硅单晶