国家标准《硅单晶电阻率的测定 直排四探针法和直流两探针法》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行，主管部门为国家标准化管理委员会。
主要起草单位中国电子科技集团公司第四十六研究所、有色金属技术经济研究院有限责任公司、有研半导体材料有限公司、广州市昆德科技有限公司、青海芯测科技有限公司、浙江海纳半导体有限公司、乐山市产品质量监督检验所、中国计量科学研究院、亚洲硅业（青海）股份有限公司、浙江金瑞泓科技股份有限公司、开化县检验检测研究院、南京国盛电子有限公司、青海黄河上游水电开发有限责任公司新能源分公司、义乌力迈新材料有限公司。
主要起草人刘立娜 、刘兆枫 、何烜坤 、刘刚 、杨素心 、孙燕 、高英 、王昕 、梁洪 、潘金平 、楼春兰 、宗冰 、李慎重 、潘文宾 、蔡丽艳 、王志强 、皮坤林 。
全部代替GB/T 1551-2009
标准号： GB/T 1551-2021
发布日期： 2021-05-21
实施日期： 2021-12-01
全部代替标准： GB/T 1551-2009
标准类别： 方法
中国标准分类号： H21
国际标准分类号： 77.040
| 77 冶金 |
| 77.040 金属材料试验 |
归口单位： 全国半导体设备和材料标准化技术委员会
执行单位： 全国半导体设备和材料标准化技术委员会
主管部门： 国家标准化管理委员会
全部代替 GB/T 1551-2009
20181809-T-469 硅单晶电阻率的测定 直排四探针法和直流两探针法
硅单晶电阻率的测定 直排四探针法和直流两探针法
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GB/T 1551-1995 硅、锗单晶电阻率测定 直流两探针法
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GB/T 6617-1995 硅片电阻率测定 扩展电阻探针法
GB/T 6617-2009 硅片电阻率测定 扩展电阻探针法
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20075054-T-469 锗单晶电阻率直流四探针测量方法
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