本专题涉及二极溅射镀膜的标准有16条。
国际标准分类中,二极溅射镀膜涉及到真空技术、医疗设备、表面处理和镀涂、分析化学、泵。
在中国标准分类中,二极溅射镀膜涉及到真空技术与设备、电真空器件综合、其他生产设备、、有机化工原料综合、化学助剂基础标准与通用方法、基础标准与通用方法、泵。
JB/T 8945-1999 真空溅射镀膜设备
JB/T 8945-2010 真空溅射镀膜设备
ASTM F136-98e1 薄膜设备用铬溅射极的标准规范
ASTM F136-08 薄膜设备用铬溅射极的标准规范
ASTM F136-13(2021)e1 薄膜设备用铬溅射极的标准规范
ASTM F1367-98(2011) 薄膜设备用铬溅射极的标准规范
SJ 1779-1981 普通二极型溅射离子泵.参数系列
SJ 1780-1981 普通二极型溅射离子泵.技术条件
T/GVS 002-2021 高精度磁控溅射镀膜设备通用技术要求
GJB 3032-1997 溅射二硫化钼基自润滑固体薄膜规范
HG/T 5297~5300-2018 扩散复合聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)薄膜、耐高温透明高阻隔膜、铟锡氧化物(ITO)镀膜用透明聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)硬化薄膜和铟锡氧化物(ITO)镀膜用折射率匹配硬化膜(2018)
BS ISO 17109:2015 表面化学分析. 深度剖析. 使用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱, 俄歇电子能谱以及二次离子质谱法溅射深度剖析中溅射率的方法
BS ISO 17109:2022 表面化学分析 深度剖析 使用单层和多层薄膜的 X 射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱溅射深度分析中溅射速率的测定方法...
ISO 17109:2015 表面化学分析. 深度剖析. 使用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱, 俄歇电子能谱以及二次离子质谱法溅射深度剖析中溅射率的方法
ISO 17109:2015/DAmd 1 表面化学分析 深度分析 X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱溅射深度分析中使用单层和多层薄膜的溅射速率测定方法 A...
GOST 5.413-1970 BP-150供电的粒状冷却二极管型离子溅射泵NMDO-01-01(NORD-100).认证产品质量要求
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