本专题涉及吸收工艺的标准有9条。
国际标准分类中，吸收工艺涉及到涂料和清漆、半导体材料。
在中国标准分类中，吸收工艺涉及到核材料、核燃料及其分析试验方法、涂料、半金属与半导体材料综合、半导体分立器件综合、半金属及半导体材料分析方法、元素半导体材料。
国际标准化组织，关于吸收工艺的标准
ISO 28199-2:2021 色漆和清漆.与喷涂工艺有关的涂层系统性能的评定.第2部分:颜色稳定性 工艺遮盖力 再溶解 过度喷涂吸收 润湿 表面纹理和斑点
ISO 28199-2:2009 色漆和清漆——与涂装工艺有关的涂层系统性能评估第2部分:颜色稳定性、工艺遮盖力、再溶解、过喷涂吸收、润湿、表面纹理和斑点
国防科工局，关于吸收工艺的标准
EJ/T 20225-2018 后处理工艺料液中铀的测定 L吸收边光谱法
，关于吸收工艺的标准
KS M ISO 28199-2-2012(2017) 色漆和清漆与涂覆工艺有关的涂层系统性能的评价第2部分:颜色稳定性、工艺遮盖力、再溶解性、过喷吸收、润湿性、表面结构和斑点
法国标准化协会，关于吸收工艺的标准
NF T30-181-2-2009 色漆和清漆.工艺应用中涂层系统的性能测定.第2部分: 颜色稳定性,过程遮盖力,再溶解,不粘附喷涂物吸收,润湿,表面纹理和斑点
德国标准化学会，关于吸收工艺的标准
DIN 50449-2-1998 半导体工艺材料试验.通过红外线吸收测定半导体中杂质含量.第2部分:砷化镓中的硼
DIN 50449-1-1997 半导体工艺用材料的检验.通过红外线吸收测定Ⅲ-Ⅴ-连接半导体杂质含量.第1部分:砷化镓中的碳素
DIN 50438-1-1995 半导体工艺材料检验.用红外吸收法测量硅的杂质含量.第1部分:氧
DIN 50438-2-1982 半导体工艺材料的检验.第2部分:用红外线吸收法测量硅中杂质含量.碳
