本专题涉及杂质吸收的标准有12条。
国际标准分类中,杂质吸收涉及到有色金属、分析化学、化工产品、半导体材料。
在中国标准分类中,杂质吸收涉及到稀有金属及其合金分析方法、稀土金属及其合金、水环境有毒害物质分析方法、半金属与半导体材料综合、半导体分立器件综合、半金属及半导体材料分析方法、电子技术专用材料、元素半导体材料。
GB/T 12690.4-2021 稀土金属及其氧化物中非稀土杂质化学分析方法 第4部分:氧、氮量的测定 脉冲-红外吸收法和脉冲-热导法
GB/T 12690.1-2015 稀土金属及其氧化物中非稀土杂质化学分析方法 第1部分:碳、硫量的测定 高频-红外吸收法
GB/T 12690.4-2003 稀土金属及其氧化物中非稀土杂质化学分析方法 氧、氮量的测定 脉冲-红外吸收法 脉冲-热导法
GB/T 12690.1-2002 稀土金属及其氧化物中非稀土杂质化学分析方法 高频--红外吸收法测定碳、硫量
ASTM D6586-2000 用快速小刻度柱试验预测含水系统中GAC吸收杂质的标准实施规范
SJ 20744-1999 半导体材料杂质含量红外吸收光谱分析通用导则
SJ/T 10632-1995 电子陶瓷原材料粘土、长石、菱镁矿、方解石、白云石、滑石、石英中杂质的原子吸收分光光度测定法
SJ/T 10633-1995 电子陶瓷原材料氧化铝中杂质的原子吸收分光光度测定法
DIN 50449-2-1998 半导体工艺材料试验.通过红外线吸收测定半导体中杂质含量.第2部分:砷化镓中的硼
DIN 50449-1-1997 半导体工艺用材料的检验.通过红外线吸收测定Ⅲ-Ⅴ-连接半导体杂质含量.第1部分:砷化镓中的碳素
DIN 50438-1-1995 半导体工艺材料检验.用红外吸收法测量硅的杂质含量.第1部分:氧
DIN 50438-2-1982 半导体工艺材料的检验.第2部分:用红外线吸收法测量硅中杂质含量.碳
前沿科学
微信公众号
中析研究所
抖音
中析研究所
微信公众号
中析研究所
快手
中析研究所
微视频
中析研究所
小红书