本专题涉及表面 荧光 光谱的标准有19条。
国际标准分类中，表面 荧光 光谱涉及到分析化学、半导体材料、涂料和清漆。
在中国标准分类中，表面 荧光 光谱涉及到基础标准与通用方法、半金属与半导体材料综合、半金属及半导体材料分析方法、材料防护。
国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会，关于表面 荧光 光谱的标准
GB/T 40110-2021 表面化学分析 全反射X射线荧光光谱法（TXRF）测定硅片表面元素污染
国家质检总局，关于表面 荧光 光谱的标准
GB/T 30701-2014 表面化学分析 硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定
GB/T 24578-2009 硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法
GB/T 24578-2015 硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法
英国标准学会，关于表面 荧光 光谱的标准
BS PD ISO/TS 18507-2015 表面化学分析. 全反射X射线荧光光谱法在生物和环境分析中的使用
BS PD ISO/TS 18507-2015 表面化学分析. 全反射X射线荧光光谱法在生物和环境分析中的使用
BS ISO 14706-2014 表面化学分析.采用全反射X射线荧光(TXRF)光谱法对硅片表面元素污染物的测定
BS ISO 14706-2014 表面化学分析.采用全反射X射线荧光(TXRF)光谱法对硅片表面元素污染物的测定
BS ISO 17331-2004+A1-2010 表面化学分析.从硅片工作标准物质表面采集元素的化学方法及其全反射X射线荧光光谱(TXRF)法的测定
BS ISO 14706-2000 表面化学分析.采用全反射X射线荧光(TXRF)光谱法对硅片表面元素污染物的测定
国际标准化组织，关于表面 荧光 光谱的标准
ISO/TS 18507:2015 表面化学分析 - 全反射X射线荧光光谱在生物和环境分析中的应用
ISO/TS 18507-2015 表面化学分析. 全反射X射线荧光光谱法在生物和环境分析中的使用
ISO 14706:2014 表面化学分析 - 通过全反射X射线荧光（TXRF）光谱测定硅晶片上的表面元素污染
ISO 17331-2004/Amd 1-2010 表面化学分析.硅片工作标准物质表面元素收集及其全反射X射线荧光光谱测定的化学方法.修改件1
ISO 17331:2004 表面化学分析——硅片工作标准物质表面元素收集的化学方法及其全反射X射线荧光光谱测定
ISO 17331-2004 表面化学分析.从硅片工作基准材料表面采集元素的化学方法及其全反射X射线荧光光谱法的测定
美国材料与试验协会，关于表面 荧光 光谱的标准
ASTM F2853-2010e1 通过能量色散X-射线荧光光谱法,利用多重单色刺激光束,以测定油漆表层和类似表面涂层或基质及同质材料的含铅量的标准试验方法
韩国标准，关于表面 荧光 光谱的标准
KS D ISO 14706-2003 表面化学分析.用全反射X射线荧光光谱法测定硅圆片表面主要污物
KS D ISO 14706-2003 表面化学分析.用全反射X射线荧光光谱法测定硅圆片表面主要污物
