表面荧光检测

本专题涉及表面 荧光的标准有25条。

国际标准分类中，表面 荧光涉及到分析化学、金属材料试验、半导体材料、食品试验和分析的一般方法、消毒和灭菌、词汇、长度和角度测量、涂料和清漆。

在中国标准分类中，表面 荧光涉及到基础标准与通用方法、半金属及半导体材料分析方法、半金属与半导体材料综合、、公共医疗设备、、、材料防护、化学。

国家质检总局，关于表面 荧光的标准

GB/T 42360-2023 表面化学分析 水的全反射X射线荧光光谱分析

GB/T 24578-2015 硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法

GB/T 30701-2014 表面化学分析 硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定

GB/T 24578-2009 硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法

国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会，关于表面 荧光的标准

GB/T 40110-2021 表面化学分析 全反射X射线荧光光谱法（TXRF）测定硅片表面元素污染

中国团体标准，关于表面 荧光的标准

T/CAQI 159-2020 食品及食品包装表面中新型冠状病毒采样与实时荧光 RT-PCR 检测方法

湖北省地方标准，关于表面 荧光的标准

DB42/T 1412-2018 医疗机构物体表面清洗效果现场快速检测-ATP生物荧光法

江苏省标准，关于表面 荧光的标准

DB32/T 3422-2018 医疗机构物体表面洁净度ATP生物荧光检测规范

上海市标准，关于表面 荧光的标准

DB31/T 1070-2017 医疗机构环境表面清洁度ATP生物荧光现场评价与检测方法

英国标准学会，关于表面 荧光的标准

BS PD ISO/TS 18507:2015 表面化学分析. 全反射X射线荧光光谱法在生物和环境分析中的使用

BS ISO 18337:2015 表面化学分析. 表面特征. 共焦荧光显微镜横向分辨率的测量

BS ISO 14706:2014 表面化学分析.采用全反射X射线荧光(TXRF)光谱法对硅片表面元素污染物的测定

BS ISO 17331:2004+A1:2010 表面化学分析.从硅片工作标准物质表面采集元素的化学方法及其全反射X射线荧光光谱(TXRF)法的测定

BS ISO 14706:2000 表面化学分析.采用全反射X射线荧光(TXRF)光谱法对硅片表面元素污染物的测定

国际标准化组织，关于表面 荧光的标准

ISO/TS 18507:2015 表面化学分析. 全反射X射线荧光光谱法在生物和环境分析中的使用

ISO 18337:2015 表面化学分析. 表面特征. 共焦荧光显微镜横向分辨率的测量

ISO 14706:2014 表面化学分析 用总反射X-射线荧光(TXRF)测定法测定硅晶片的表面基本的污染

ISO 17331:2004 表面化学分析.从硅片工作基准材料表面采集元素的化学方法及其全反射X射线荧光光谱法的测定

ISO 14706:2000 表面化学分析 用总反射X-射线荧光(TXRF)测定法测定硅晶片的表面基本的污染

美国材料与试验协会，关于表面 荧光的标准

ASTM A754/A754M-11 钢表面金属涂层重量(质量)X射线荧光测量的标准试验方法

ASTM F2853-10e1 通过能量色散X-射线荧光光谱法,利用多重单色刺激光束,以测定油漆表层和类似表面涂层或基质及同质材料的含铅量的标准试验方法

日本工业标准调查会，关于表面 荧光的标准

JIS K0160-2009 表面化学分析.从硅片加工基准材料的表面上收集元素和化学方法及其通过总反射X射线荧光(TXRF)分光光度法的测定

JIS K0148-2005 表面化学分析.用总反射X-射线荧光(TXRF)测定法测定硅晶片的表面主要污染物

韩国标准，关于表面 荧光的标准

KS D ISO 14706:2003 表面化学分析.用全反射X射线荧光光谱法测定硅圆片表面主要污物

，关于表面 荧光的标准

KS D ISO 14706-2003(2018) 表面化学分析-全反射X-射线荧光分析仪测定硅片表面元素杂质