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工业硅中硅含量检测

本专题涉及工业硅中硅含量的标准有26条。

国际标准分类中,工业硅中硅含量涉及到金属材料试验、有色金属、半导体材料、无机化学。

在中国标准分类中,工业硅中硅含量涉及到半金属及半导体材料分析方法、轻金属及其合金分析方法、无机盐。


未注明发布机构,关于工业硅中硅含量的标准

GB/T 14849.3-2020 工业硅化学分析方法 第3部分:钙含量的测定

GB/T 14849.1-2020 工业硅化学分析方法 第1部分:铁含量的测定

国家质检总局,关于工业硅中硅含量的标准

GB/T 14849.10-2016 工业硅化学分析方法 第10部分:汞含量的测定 原子荧光光谱法

GB/T 14849.11-2016 工业硅化学分析方法 第11部分:铬含量的测定 二苯碳酰二肼分光光度法

GB/T 14849.8-2015 工业硅化学分析方法 第8部分:铜含量的测定 原子吸收光谱法

GB/T 14849.7-2015 工业硅化学分析方法 第7部分:磷含量的测定 磷钼蓝分光光度法

GB/T 14849.9-2015 工业硅化学分析方法 第9部分:钛含量的测定 二安替吡啉甲烷分光光度法

GB/T 14849.6-2014 工业硅化学分析方法 第6部分:碳含量的测定 红外吸收法

GB/T 14849.5-2014 工业硅化学分析方法 第5部分:杂质元素含量的测定 X射线荧光光谱法

GB/T 14849.4-2014 工业硅化学分析方法 第4部分:杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法

GB/T 14849.5-2010 工业硅化学分析方法.第5部分:元素含量的测定.X射线荧光光谱法

GB/T 14849.4-2008 工业硅化学分析方法.第4部分:电感耦合等离子体原子发射光谱法测定元素含量

GB/T 14849.2-2007 工业硅化学分析方法 第2部分:铝含量的测定 铬天青-S分光光度法

GB/T 14849.1-2007 工业硅化学分析方法 第1部分:铁含量的测定 1,10-二氮杂菲分光光度法

GB/T 14849.3-2007 工业硅化学分析方法 第3部分:钙含量的测定

工业和信息化部,关于工业硅中硅含量的标准

YS/T 1160-2016 工业硅粉定量相分析 二氧化硅含量的测定 X射线衍射K值法

青海省质量技术监督局,关于工业硅中硅含量的标准

DB63/T 1431-2015 工业铬酸钠中铝、钙、镁、铁、硅、钒含量的测定—电感耦合等离子体发射光谱法

DB63/T 1430-2015 工业铬酸酐中铝、钙、镁、铁、硅、钒含量的测定—电感耦合等离子体发射光谱法

DB63/T 1432-2015 工业重铬酸钠中铝、钙、镁、铁、硅、钒含量的测定—电感耦合等离子体发射光谱法

,关于工业硅中硅含量的标准

TS 2914-1978 工业无水氟化氢.六氟合硅酸含量的测定.还原硅钡酸盐光度法

荣誉资质

旗下实验室已通过CMA、CNAS、ISO等多项资质认证,检测能力经权威部门评审认定,为检测数据的专业性与权威性提供坚实保障。

CMA检验检测机构资质认定证书
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CNAS实验室认可证书
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ISO管理体系认证证书
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高新技术企业证书
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精密仪器设备

研究所配备电感耦合等离子体质谱仪、气相色谱-质谱联用仪、高效液相色谱仪、扫描电子显微镜等各类精密仪器设备1000+台(套),覆盖光谱、色谱、质谱、力学、环境可靠性等多个检测方向。所有仪器均依法检定校准、量值溯源可靠,为检测数据的准确性与可追溯性提供坚实的硬件保障。

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电感耦合等离子体质谱仪

电感耦合等离子体质谱仪 ICP-MS

面向环境、食品、材料等领域,实现痕量与超痕量元素同时分析,检出限低至ppt级。

气相色谱-质谱联用仪

气相色谱-质谱联用仪 GC-MS

用于挥发性及半挥发性有机物的定性定量分析,广泛应用于环境监测与化学品检测。

高效液相色谱仪

高效液相色谱仪 HPLC

实现复杂体系中有机化合物的高效分离与准确定量,服务多领域成分检测。

扫描电子显微镜

扫描电子显微镜 SEM

观察材料微观形貌与组织结构,配合能谱实现微区成分分析。

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万能材料试验机 UTM

精确测定材料拉伸、压缩、弯曲等力学性能指标,支撑产品质量控制。

高低温交变试验箱

高低温交变试验箱 TEMP

模拟高低温交变环境,考核产品在极端温度条件下的适应性与可靠性。

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