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工业硅中硅含量检测

工业硅中硅含量检测

发布时间:2025-09-18 00:00:00

中析研究所涉及专项的性能实验室,在工业硅中硅含量检测服务领域已有多年经验,可出具CMA和CNAS资质,拥有规范的工程师团队。中析研究所始终以科学研究为主,以客户为中心,在严格的程序下开展检测分析工作,为客户提供检测、分析、还原等一站式服务,检测报告可通过一键扫描查询真伪。

本专题涉及工业硅中硅含量的标准有26条。

国际标准分类中,工业硅中硅含量涉及到金属材料试验、有色金属、半导体材料、无机化学。

在中国标准分类中,工业硅中硅含量涉及到半金属及半导体材料分析方法、轻金属及其合金分析方法、无机盐。


未注明发布机构,关于工业硅中硅含量的标准

GB/T 14849.3-2020 工业硅化学分析方法 第3部分:钙含量的测定

GB/T 14849.1-2020 工业硅化学分析方法 第1部分:铁含量的测定

国家质检总局,关于工业硅中硅含量的标准

GB/T 14849.10-2016 工业硅化学分析方法 第10部分:汞含量的测定 原子荧光光谱法

GB/T 14849.11-2016 工业硅化学分析方法 第11部分:铬含量的测定 二苯碳酰二肼分光光度法

GB/T 14849.8-2015 工业硅化学分析方法 第8部分:铜含量的测定 原子吸收光谱法

GB/T 14849.7-2015 工业硅化学分析方法 第7部分:磷含量的测定 磷钼蓝分光光度法

GB/T 14849.9-2015 工业硅化学分析方法 第9部分:钛含量的测定 二安替吡啉甲烷分光光度法

GB/T 14849.6-2014 工业硅化学分析方法 第6部分:碳含量的测定 红外吸收法

GB/T 14849.5-2014 工业硅化学分析方法 第5部分:杂质元素含量的测定 X射线荧光光谱法

GB/T 14849.4-2014 工业硅化学分析方法 第4部分:杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法

GB/T 14849.5-2010 工业硅化学分析方法.第5部分:元素含量的测定.X射线荧光光谱法

GB/T 14849.4-2008 工业硅化学分析方法.第4部分:电感耦合等离子体原子发射光谱法测定元素含量

GB/T 14849.2-2007 工业硅化学分析方法 第2部分:铝含量的测定 铬天青-S分光光度法

GB/T 14849.1-2007 工业硅化学分析方法 第1部分:铁含量的测定 1,10-二氮杂菲分光光度法

GB/T 14849.3-2007 工业硅化学分析方法 第3部分:钙含量的测定

工业和信息化部,关于工业硅中硅含量的标准

YS/T 1160-2016 工业硅粉定量相分析 二氧化硅含量的测定 X射线衍射K值法

青海省质量技术监督局,关于工业硅中硅含量的标准

DB63/T 1431-2015 工业铬酸钠中铝、钙、镁、铁、硅、钒含量的测定—电感耦合等离子体发射光谱法

DB63/T 1430-2015 工业铬酸酐中铝、钙、镁、铁、硅、钒含量的测定—电感耦合等离子体发射光谱法

DB63/T 1432-2015 工业重铬酸钠中铝、钙、镁、铁、硅、钒含量的测定—电感耦合等离子体发射光谱法

,关于工业硅中硅含量的标准

TS 2914-1978 工业无水氟化氢.六氟合硅酸含量的测定.还原硅钡酸盐光度法

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