本专题涉及掺杂的标准有70条。
国际标准分类中，掺杂涉及到半导体材料、分析化学、绝缘流体、黑色金属、工业自动化系统、光电子学、激光设备、有色金属、有色金属产品、玻璃、光学和光学测量、核能工程、光纤通信、化工产品、实验室医学、航空航天用电气设备和系统、表面处理和镀涂、土方工程、挖掘、地基构造、地下工程。
在中国标准分类中，掺杂涉及到林产化工原料、半金属与半导体材料综合、电子光学与其他物理光学仪器、金属物理性能试验方法、半导体分立器件综合、稀有高熔点金属及其合金、、、稀土金属及其合金、重金属及其合金、、、、、重金属及其合金分析方法、基础标准与通用方法、金属与合金粉末、光通信设备、金属化学分析方法综合、化学、工业气体与化学气体、基础标准与通用方法、机械配件、构件、电子技术专用材料、轻金属及其合金、地基、基础工程、肥料与土壤调理剂、元素半导体材料。
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会，关于掺杂的标准
GB/T 33028-2016 松脂中工业盐掺杂物鉴别方法
GB/T 33025-2016 松脂掺杂评估方法
GB/T 33030-2016 松脂中淀粉类掺杂物鉴别方法
国家质检总局，关于掺杂的标准
GB/T 13389-2014 掺硼掺磷掺砷硅单晶电阻率与掺杂剂浓度换算规程
GB/T 14847-2010 重掺杂衬底上轻掺杂硅外延层厚度的红外反射测量方法
GB/T 20176-2006 表面化学分析.二次离子质谱.用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度
GB/T 17170-1997 非掺杂半绝缘砷化镓单晶深能级EL2浓度红外吸收测试方法
GB/T 14847-1993 重掺杂衬底上轻掺杂硅外延层厚度的红外反射测量方法
GB/T 13389-1992 掺硼碜磷硅单晶电阻率与掺杂剂浓度换算规程
GB/T 4190-1984 掺杂钼条
GB/T 4189-1984 掺杂钨条
中国团体标准，关于掺杂的标准
T/GDMES 0036-2022 高效光伏电池激光掺杂设备
T/REIANM 0202-2022 激光照明用铈掺杂石榴石结构铝酸盐荧光陶瓷
T/SDG 002-2020 中空玻璃用干燥剂中掺杂物（氯化钙、氧化钙）检出的试验方法
T/GDCKCJH 027-2020 稀土掺杂激光玻璃光吸收和荧光特性测试方法
T/CSTM 00035-2020 铈掺杂硅酸钇闪烁晶体
T/CSTM 00032-2020 铈掺杂硅酸钇镥闪烁晶体阵列
T/CSTM 00036-2020 铈掺杂铝镓酸钆闪烁晶体
工业和信息化部，关于掺杂的标准
XB/T 520-2021 铈掺杂钆镓铝石榴石多晶闪烁体
YS/T 1441-2021 掺杂型四氧化三钴
YS/T 1339-2019 掺杂型镍钴锰三元素复合氢氧化物化学分析方法 铝、镁、钛、锶、锆、镧、钇含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法
英国标准学会，关于掺杂的标准
BS ISO 13083-2015 表面化学分析. 扫描式探针显微术. 电子扫描式探针显微术 (ESPM), 例如用于二维掺杂成像等用途的SSRM和SCM, 中空间分辨率的定义和校准标准
BS ISO 13083-2015 表面化学分析. 扫描式探针显微术. 电子扫描式探针显微术 (ESPM), 例如用于二维掺杂成像等用途的SSRM和SCM, 中空间分辨率的定义和校准标准
BS PD IEC/TR 62627-03-03-2013 纤维光学互连器件和无源元件. 可靠性. 掺杂金属光纤插头样式光学衰减器的高功率可靠性报告
BS ISO 14237-2010 表面化学分析.二次离子质谱.用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度
BS ISO 14237-2010 表面化学分析.二次离子质谱.用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度
国际标准化组织，关于掺杂的标准
ISO 13083:2015 表面化学分析.扫描探针显微镜.用于2D掺杂成像和其他目的的电扫描探针显微镜（ESPM）的空间分辨率定义和校准标准 如SSRM和SCM
ISO 13083-2015 表面化学分析. 扫描式探针显微术. 电子扫描式探针显微术 (ESPM), 例如用于二维掺杂成像等用途的SSRM和SCM, 中空间分辨率的定义和校准标准
ISO 14237:2010 表面化学分析——二次离子质谱法——用均匀掺杂材料测定硅中硼原子浓度
ISO 14237-2010 表面化学分析.二次离子质谱.用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度
ISO 14237:2000 表面化学分析.二次离子质谱法.使用均匀掺杂材料测定硅中的硼原子浓度
ISO 14237-2000 表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度
ISO/PAS 18873-1999 掺杂控制的国际协议
行业标准-有色金属，关于掺杂的标准
YS/T 1087-2015 掺杂型镍钴锰三元素复合氢氧化物
，关于掺杂的标准
INDITECNOR 23-59ch-1956 食用植物油：对带染料和带动物油或者矿物油的掺杂进行测量
INDITECNOR 23-62ch-1956 橄榄油：针对是否掺杂着其他类型油或者色料的检验方法
国际电工委员会，关于掺杂的标准
IEC TR 62627-03-03-2013 纤维光学互连器件和无源元件第03-03部分:可靠性金属掺杂光纤插塞式光衰减器的高功率可靠性报告
IEC TR 62627-03-03:2013 纤维光学互连器件和无源元件第03-03部分:可靠性金属掺杂光纤插塞式光衰减器的高功率可靠性报告
IEC/TR 62627-03-03-2013 光导互联装置和无源部件.第03-03部分:可靠性.掺杂金属光纤插头样式光学衰减器的高功率可靠性报告
行业标准-建材，关于掺杂的标准
JC/T 2132-2012 钛酸锶钡中掺杂元素和微量元素含量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法
法国标准化协会，关于掺杂的标准
NF X21-070-2010 表面化学分析.二次离子质谱.用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度.
NF P94-242-1-1993 掺杂法土壤加固.拔钉法.恒定位移速率试验
NF P94-210-1992 掺杂法土壤加固.总则和术语
美国材料与试验协会，关于掺杂的标准
ASTM E1438-2006 用次级离子质谱法(SIMS)测量深度掺杂分布界面宽度标准指南
ASTM F1594-1995(2011) 真空镀膜用纯铝(未掺杂质)原材料标准规范
ASTM F1594-1995(2003) 真空镀膜用纯铝(未掺杂质)原材料标准规范
ASTM F1366-92(1997)e1 用二次离子质谱法测量重掺杂硅衬底中氧浓度的标准试验方法
ASTM F1366-1992(1997)e1 用次级离子质谱仪测量重掺杂硅基底中氧含量的测试方法
韩国标准，关于掺杂的标准
KS D ISO 14237-2003 表面化学分析.次级离子质谱法.使用非均一掺杂材料的硅中硼原子的浓度测定
KS D ISO 14237-2003 表面化学分析.次级离子质谱法.使用非均一掺杂材料的硅中硼原子的浓度测定
德国标准化学会，关于掺杂的标准
DIN 50450-9-2003 半导体工艺材料测试.载气和掺杂气体杂质测定.第9部分:用气相色谱法测定气态氯化氢中氧、氮、一氧化碳、二氧化碳、氢和C<下标1>-C<下标3>-烃类含量
DIN 50450-4-1993 半导体工艺材料的检验.运载气体和掺杂剂气体中杂质的测定.用气相色谱法测定氮气中C1－C3烃类化合物
DIN 50445-1992 半导体工艺材料检验.用涡流法无接触测定电阻率.均匀掺杂半导体片
DIN 50439-1982 半导体技术材料的试验.用电容--电压法和水银接点确定单晶层半导体材料中掺杂剂的浓度分布曲线
日本工业标准调查会，关于掺杂的标准
JIS K0143-2000 表面化学分析.次级离子质谱法.利用均匀掺杂材料测定硅中硼原子浓度
(美国)海军，关于掺杂的标准
NAVY MIL-P-24377 A NOTICE 2-1998 润滑表面掺杂聚四氟乙烯,石棉编绳组装材料
NAVY MIL-P-24377 A VALID NOTICE 1-1988 润滑表面掺杂聚四氟乙烯,石棉编绳组装材料
NAVY MIL-P-24377 A-1982 润滑表面掺杂聚四氟乙烯,石棉编绳组装材料
行业标准-农业，关于掺杂的标准
香港规例第132V章 食物掺杂(金属杂质含量)规例
行业标准-林业，关于掺杂的标准
LY/T 2561-2015 松脂中工业盐掺杂物鉴别方法
