本专题涉及钴的俄歇电子能谱的标准有49条。
国际标准分类中,钴的俄歇电子能谱涉及到分析化学、电学、磁学、电和磁的测量、光学设备、光学和光学测量、无损检测、电子元器件综合、金属材料试验。
在中国标准分类中,钴的俄歇电子能谱涉及到基础标准与通用方法、综合测试系统、电子光学与其他物理光学仪器、化学、化学助剂基础标准与通用方法、光学测试仪器、标准化、质量管理、金属化学分析方法综合。
GB/T 41064-2021 表面化学分析 深度剖析 用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中深度剖析溅射速率的方法
GB/T 36504-2018 印刷线路板表面污染物分析 俄歇电子能谱
GB/T 36533-2018 硅酸盐中微颗粒铁的化学态测定 俄歇电子能谱法
GB/Z 32494-2016 表面化学分析 俄歇电子能谱 化学信息的解析
GB/T 31470-2015 俄歇电子能谱与X射线光电子能谱测试中确定检测信号对应样品区域的通则
GB/T 30702-2014 表面化学分析 俄歇电子能谱和X射线光电子能谱 实验测定的相对灵敏度因子在均匀材料定量分析中的使用指南
GB/T 29556-2013 表面化学分析 俄歇电子能谱和X射线光电子能谱 横向分辨率、分析面积和分析器所能检测到的样品面积的测定
GB/T 29558-2013 表面化学分析 俄歇电子能谱 强度标的重复性和一致性
GB/T 28893-2012 表面化学分析.俄歇电子能谱和X射线光电子能谱.测定峰强度的方法和报告结果所需的信息
GB/T 28632-2012 表面化学分析.俄歇电子能谱和X射线光电子能谱.横向分辨率测定
GB/T 26533-2011 俄歇电子能谱分析方法通则
GB/T 25187-2010 表面化学分析.俄歇电子能谱.选择仪器性能参数的表述
GB/T 32998-2016 表面化学分析 俄歇电子能谱 荷电控制与校正方法报告的规范要求
GB/T 32565-2016 表面化学分析 俄歇电子能谱(AES)数据记录与报告的规范要求
ISO 17109:2022 表面化学分析.深度剖面.用单层和多层薄膜在X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中测定溅射速率的方法
ISO 20903:2019 表面化学分析 - 俄歇电子光谱和X射线光电子能谱 - 用于确定峰值强度的方法和报告结果时所需的信息
ISO/TR 18394:2016 表面化学分析. 俄歇电子能谱学. 提取化学信息
ISO 17109:2015 表面化学分析. 深度剖析. 使用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱, 俄歇电子能谱以及二次离子质谱法溅射深度剖析中溅射率的方法
ISO 16242:2011 表面化学分析.俄歇电子能谱术(AES)的记录和报告数据
ISO 29081:2010 表面化学分析.俄歇电子能谱法.电荷控制和电荷调整用报告法
ISO/TR 19319:2003 表面化学分析.俄歇电子能谱和X射线光电子能谱.分析员对横向分辨率、分析区域和样品区域的目视检测
ASTM E984-12(2020) 识别俄歇电子能谱中化学效应和基质效应的标准指南
ASTM E996-19 俄歇电子能谱和X射线光电子能谱中数据报告的标准实施规程
ASTM E996-10(2018) 俄歇电子能谱和X射线光电子能谱中数据报告的标准实施规程
ASTM E995-16 俄歇电子光谱和X射线光电子能谱背景减法技术标准指南
ASTM E984-12 用俄歇电子能谱法鉴别化学效应和基体效应的标准指南
ASTM E995-11 在俄歇电子能谱和X射线光电子能谱中应用背景消除技术的标准指南
ASTM E996-10 俄歇电子光谱仪和X射线光电子能谱的报告数据的标准规程
ASTM E1127-08 俄歇电子能谱学中的深度压形的标准指南
ASTM E984-06 用俄歇电子能谱法鉴别化学效应和基体效应用标准指南
ASTM E996-04 俄歇电子光谱仪和X射线光电子能谱的报告数据的标准规程
ASTM E984-95 识别俄歇电子能谱中化学效应和基质效应的标准指南
ASTM E996-94(1999) 俄歇电子能谱分析和X射线光电子光谱分析数据报告的标准规程
KS D ISO 18118-2005(2020) 表面化学分析俄歇电子能谱和X射线光电子能谱均匀材料定量分析用实验测定的相对灵敏度因子的使用指南
KS D ISO 19319-2005(2020) 表面化学分析-俄歇电子能谱和X射线光电子能谱-分析仪横向分辨率、分析面积和样品面积的测定
KS D ISO 15471-2005(2020) 表面化学分析-俄歇电子能谱学-选定仪器性能参数的描述
BS ISO 17109:2015 表面化学分析. 深度剖析. 使用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱, 俄歇电子能谱以及二次离子质谱法溅射深度剖析中溅射率的方法
BS ISO 16242:2011 表面化学分析.俄歇电子能谱术的记录和报告数据(AEC)
BS ISO 20903:2011 表面化学分析.俄歇电子能谱和X-射线光电光谱学.测定峰强度的方法和报告结果要求的信息
BS ISO 29081:2010 表面化学分析.俄歇电子能谱法.电荷控制和电荷调整用报告法
NF X21-072-2012 表面化学分析.俄歇电子能谱术(AES)的记录和报告数据
NF X21-058-2006 表面化学分析.俄歇电子能谱学和X射线光电子光谱法.测定峰强度使用的方法和报告结果时需要的信息
JIS K0167-2011 表面化学分析.俄歇电子光谱和X射线光电子能谱学.匀质材料定量分析用实验室测定相对敏感因子的使用指南
KS D ISO 19319:2005 表面化学分析.俄歇电子能谱和X射线光电子能谱.分析员对横向分辨率、分析区域和样品区域的目视检测
SJ/T 10458-1993 俄歇电子能谱术和X射线光电子能谱术的样品处理标准导则
SJ/T 10457-1993 俄歇电子能谱术深度剖析标准导则
JB/T 6976-1993 俄歇电子能谱术元素鉴定方法
AS ISO 18118:2006 表面化学分析.俄歇电子能谱法和X射线光电子光谱法.均质材料定量分析中实验测定的相对灵敏系数使用指南
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