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本专题涉及深度 分析的标准有13条。
国际标准分类中，深度 分析涉及到分析化学。
在中国标准分类中，深度 分析涉及到。
国际标准化组织，关于深度 分析的标准
ISO/TR 15969:2021 表面化学分析 - 深度分析 - 溅射深度的测量
ISO 16531:2020 表面化学分析 - 深度分析 - 离子束对准方法和相关的电流或电流密度测量 用于AES和XPS中的深度分析
ISO 17560:2014 表面化学分析 - 二次离子质谱法 - 硅在硅中深度分析的方法
日本工业标准调查会，关于深度 分析的标准
JIS K 0164:2023 表面化学分析二次离子质谱硅中硼深度分析方法
英国标准学会，关于深度 分析的标准
BS ISO 11505:2012 表面化学分析 辉光放电发射光谱定量成分深度分析的一般程序
BS ISO 16531:2020 表面化学分析 深度剖析 离子束对准方法以及 AES 和 XPS 中深度分析的电流或电流密度的相关测量方法
19/30399949 DC BS ISO 16531 表面化学分析 深度剖析 离子束对准方法以及 AES 和 XPS 中深度分析的电流或电流密度的相关测量方法
BS ISO 23170:2022 表面化学分析 深度剖析 利用中能离子散射对硅基底上的纳米级重金属氧化物薄膜进行无损深度分析
21/30423416 DC BS ISO 23170 表面化学分析 深度剖析 利用中能离子散射对硅基底上的纳米级重金属氧化物薄膜进行无损深度分析
BS ISO 17109:2022 表面化学分析 深度剖析 使用单层和多层薄膜的 X 射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱溅射深度分析中溅射速率的测定方法...
21/30433862 DC BS ISO 17109 AMD1 表面化学分析 深度剖析 使用单一和……的 X 射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱溅射深度分析中溅射速率测定方法
德国标准化学会，关于深度 分析的标准
DIN ISO 11505:2018-02 表面化学分析 通过辉光放电发射光谱法定量成分深度分析的一般程序
法国标准化协会，关于深度 分析的标准
FD ISO/TR 22335:2008 表面化学分析 深度分析 溅射速度测量：使用带有机械触针的轮廓仪通过网格压印的方法
