本专题涉及离子浓度测量的标准有13条。
国际标准分类中，离子浓度测量涉及到化工产品、半导体材料、计量学和测量综合、分析化学。
在中国标准分类中，离子浓度测量涉及到表面活性剂基础标准与通用方法、元素半导体材料。
国家质检总局，关于离子浓度测量的标准
GB/T 11276-1989 阳离子表面活性剂(氢氯化物和氢溴化物)临界胶束浓度的测定 反离子活度测量法
行业标准-电子，关于离子浓度测量的标准
SJ/T 11498-2015 重掺硅衬底中氧浓度的二次离子质谱测量方法
SJ/T 11493-2015 硅衬底中氮浓度的二次离子质谱测量方法
，关于离子浓度测量的标准
NBN T 63-152-1983 阳离子表面活性剂（氢氯化物和溴化氢物）临界胶束化浓度的测定．抗衡离子活性的测量方法
法国标准化协会，关于离子浓度测量的标准
NF T73-414-1983 表面活性剂.阳离子表面活性剂(氢氯化物和氢溴化物).临界胶束化浓度的测定.抗离子活性的测量方法
NF T73-411-1980 阴离子和非离子表面活性剂.临界胶束浓度的测定.用板、蹬式夹或环测量表面张力的方法
国际标准化组织，关于离子浓度测量的标准
ISO 6840-1982 阳离子表面活性剂（氢氯化物和氢溴化物）——临界胶束浓度的测定——反离子活度测量法
ISO 6840:1982 阳离子表面活性剂(氢氯化物和氢溴化物) 临界胶束浓度的测定 反离子活度测量法
ISO 4311-1979 阴离子和非离子表面活性剂——临界胶束浓度的测定——用平板、箍筋或环测量表面张力的方法
澳大利亚标准协会，关于离子浓度测量的标准
AS ISO 14237:2006 表面化学分析．次级离子质谱测量法．使用均一的绝缘材料测定硅中的硼原子浓度
