本专题涉及硅晶体间隙氧含量的标准有5条。
国际标准分类中,硅晶体间隙氧含量涉及到金属材料试验、半导体材料、绝缘流体。
在中国标准分类中,硅晶体间隙氧含量涉及到半金属及半导体材料分析方法、半金属与半导体材料综合、金属无损检验方法、金属物理性能试验方法。
国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会,关于硅晶体间隙氧含量的标准
GB/T 1557-2018 硅晶体中间隙氧含量的红外吸收测量方法
国家质检总局,关于硅晶体间隙氧含量的标准
GB/T 14144-2009 硅晶体中间隙氧含量径向变化测量方法
GB/T 1557-2006 硅晶体中间隙氧含量的红外吸收测量方法
GB/T 14144-1993 硅晶体中间隙氧含量经向变化测量方法
GB/T 1557-1989 硅晶体中间隙氧含量的红外吸收测量方法





