本专题涉及表面 离子的标准有110条。
国际标准分类中，表面 离子涉及到分析化学、半导体材料、表面处理和镀涂、长度和角度测量、橡胶、有色金属、钢铁产品、化工产品、涂料涂覆工艺、水质。
在中国标准分类中，表面 离子涉及到基础标准与通用方法、半金属与半导体材料综合、电子光学与其他物理光学仪器、材料防护、、稀有金属及其合金分析方法、化学助剂基础标准与通用方法、化学、表面活性剂、轻金属及其合金分析方法、、水环境有毒害物质分析方法、管路附件。
国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会，关于表面 离子的标准
GB/T 41064-2021 表面化学分析 深度剖析 用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中深度剖析溅射速率的方法
GB/T 40109-2021 表面化学分析 二次离子质谱 硅中硼深度剖析方法
GB/T 40129-2021 表面化学分析 二次离子质谱 飞行时间二次离子质谱仪质量标校准
中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局、中国国家标准化管理委员会，关于表面 离子的标准
GB/T 34174-2017 表面化学分析 工作参考物质中离子注入产生的驻留面剂量定值的推荐程序
国家质检总局，关于表面 离子的标准
GB/T 32495-2016 表面化学分析 二次离子质谱 硅中砷的深度剖析方法
GB/T 25186-2010 表面化学分析.二次离子质谱.由离子注入参考物质确定相对灵敏度因子
GB/T 24575-2009 硅和外延片表面Na、Al、K和Fe的二次离子质谱检测方法
GB/T 22572-2008 表面化学分析 二次离子质谱 用多δ层参考物质评估深度分辨参数的方法
GB/T 18570.12-2008 涂覆涂料前钢材表面处理.表面清洁度的评定试验.第12部分:水溶性铁离子的现场滴定测定法
GB/T 20176-2006 表面化学分析.二次离子质谱.用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度
GB/T 18570.5-2005 涂覆涂料前钢材表面处理 表面清洁度的评定试验 第5部分;涂覆涂料前钢材表面的氯化物测定(离子探测管法)
国际标准化组织，关于表面 离子的标准
ISO 17862:2022 表面化学分析.二次离子质谱法.单离子计数飞行时间质量分析仪中强度标度的线性
ISO 23170:2022 表面化学分析.深度剖面.用中能离子散射法对硅衬底上纳米级重金属氧化物薄膜进行无损深度剖面
ISO/TS 22933:2022 表面化学分析.二次离子质谱法.模拟离子质谱中质量分辨率的测量方法
ISO 17109:2022 表面化学分析.深度剖面.用单层和多层薄膜在X射线光电子能谱、俄歇电子能谱和二次离子质谱中测定溅射速率的方法
ISO 18114:2021 表面化学分析. 次级离子质谱法. 测定离子注入标样中的相对灵敏度系数
ISO 22415:2019 表面化学分析.二次离子质谱法.有机材料氩团簇溅射深度剖面测定屈服体积的方法
ISO 178:2019 表面化学分析.二次离子质谱法.单离子计数飞行时间质量分析仪中强度标度的线性
ISO 13084:2018 表面化学分析 - 二次离子质谱法 - 用于飞行时间二次离子质谱仪的质谱的校准
ISO 17109:2015 表面化学分析. 深度剖析. 使用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱, 俄歇电子能谱以及二次离子质谱法溅射深度剖析中溅射率的方法
ISO 17560:2014 表面化学分析 - 二次离子质谱法 - 硅在硅中深度分析的方法
ISO 17862:2013 表面化学分析——二次离子质谱法——单离子计数飞行时间质量分析仪中强度标度的线性
ISO 13084:2011 表面化学分析.二次离子质谱分析法.飞行时间二次离子质谱仪用质量标度的校准
ISO 12406:2010 表面化学分析.二次离子质谱分析法.硅中砷的深度剖析法
ISO 14237:2010 表面化学分析.二次离子质谱.用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度
ISO/TR 16268:2009 表面化学分析.验证离子注入产生的工作参考材料中保留面剂量的建议规程
ISO 23812:2009 表面化学分析.次级离子质谱测定法.使用多δ层参考材料的硅深度校准方法
ISO 23830:2008 表面化学分析.次级离子质谱测定法.静态次级离子质谱测定法中相对强度数值范围的重复性和稳定性
ISO 22048:2004 表面化学分析——静态二次离子质谱信息格式
ISO 20341:2003 表面化学分析.次级离子质谱法.多δ层标准材料深度溶解参数的估算方法
ISO 18114:2003 表面化学分析.次级离子质谱法.测定离子注入标样中的相对灵敏度系数
ISO 8502-12:2003 使用涂料和相关产品之前钢基质的制备.表面清洁度评定试验.第12部分:滴定测定水溶铁离子的现场试验方法
ISO 17560:2002 表面化学分析.再生离子质量的光谱测定.硅中硼的深仿形方法
ISO 14237:2000 表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度
ISO 8502-5:1998 涂装油漆和有关产品前钢材预处理 表面清洁度的评定试验 第5部分:涂装前钢材表面上氯化物测定(离子探测管法)
ISO 178:1975 表面化学分析.二次离子质谱法.单离子计数飞行时间质量分析仪中强度标度的线性
日本工业标准调查会，关于表面 离子的标准
JIS K0157-2021 表面化学分析. 二次离子质谱法. 渡越时间二次离子质谱仪的质量标度的校准
JIS K0158-2021 表面化学分析. 二次离子质谱法. 单离子计数动态二次离子质谱法中饱和强度的校正方法
JIS K0153-2015 表面化学分析. 二次离子质谱法. 静态二次离子质谱法中相对强度范围的重复性和稳定性
JIS K0169-2012 表面化学分析.二次离子质谱(SIMS).带多重亚铅层对照物的深度分辨率参数估算方法
JIS K0168-2011 表面化学分析.静态二次离子质谱法用信息格式
JIS K0164-2010 表面化学分析.再生离子质量的光谱测定.硅中硼的深压型用方法
JIS K0163-2010 表面化学分析.次级离子质谱法.离子注入标样中相对灵敏度系数的测定
JIS K0143-2000 表面化学分析.次级离子质谱法.利用均匀掺杂材料测定硅中硼原子浓度
，关于表面 离子的标准
UNE 55-725-1987 表面药剂．使用德雷根道尔夫试剂的水环境中非离子表面活性剂小浓度确定
UNE 55-803-1986 表面药剂．作为洗涤剂制造原料的化学物品．氯离子的确定一般方法．电位法
UNE 55-802-1985 表面药剂．阳离子表面药剂（盐酸和溴酸）胶术信息的关键密度确定．离子对比活动的测量方法
美国材料与试验协会，关于表面 离子的标准
ASTM F1374-92(2020) 内部表面的离子/有机萃取物的标准测试方法 - 用于气体分配系统组件的IC/GC/FTIR
ASTM D8280-20a 用离子色谱法测定塑料材料表面溴化阻燃剂绽放的标准试验方法
ASTM D8280-20 用离子色谱法测定塑料材料表面溴化阻燃剂绽放的标准试验方法
ASTM F1617-98 用次级离子质谱测定法(SIMS)测定表面钠,铝,钾-硅和EPI衬底的标准试验方法
ASTM F1374-92(2012) 气体分配系统部件内表面-IC/GC/FTIR离子/有机可萃取物的标准试验方法
ASTM F1374-92(2005) 气体分配系统组件内表面IC/GC/FTIR的离子/有机可萃取物的标准试验方法
安徽省市场监督管理局，关于表面 离子的标准
DB34/T 3370-2019 印制电路板 表面游离氯、溴的测 定 离子色谱法
工业和信息化部，关于表面 离子的标准
YS/T 1259-2018 锆合金管材表面氟离子含量的测定 分光光度法
英国标准学会，关于表面 离子的标准
BS ISO 17109:2015 表面化学分析. 深度剖析. 使用单层和多层薄膜测定X射线光电子能谱, 俄歇电子能谱以及二次离子质谱法溅射深度剖析中溅射率的方法
BS ISO 17560:2014 表面化学分析.再生离子质量光谱测定.硅中硼的深仿形分析法
BS ISO 17862:2013 表面化学分析.次级离子质谱法.单离子计数飞行时间质量分析器强度标的线性
BS ISO 13084:2011 表面化学分析.二次离子质谱.飞行时间二次离子质谱用质量标度的校准
BS ISO 12406:2010 表面化学分析.二次离子质谱分析法.硅中砷的深度剖析法
BS ISO 14237:2010 表面化学分析.二次离子质谱.用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度
BS ISO 23812:2009 表面化学分析.次级离子质谱分析法.用多δ层基准物质对硅进行深度校准的方法
BS ISO 23830:2008 表面化学分析.次级离子质谱法.静态次级离子质谱法中相对强度数值范围的重复性和稳定性
BS ISO 22048:2005 表面化学分析.静态次生离子质谱法的信息格式
BS EN ISO 8502-5:2005 涂料和相关制品使用前钢基质的预处理.表面清洁度的评定试验.涂装前钢材表面上氯化物的测定(离子探测管法)
BS ISO 20341:2003 表面化学分析.次级离子质谱法.多δ层标准材料深度溶解参数的估算方法
BS ISO 18114:2003 表面化学分析.次级离子质谱法.测定离子注入标样的相对灵敏系数
BS EN ISO 8502-12:2003 涂料和相关制品使用前钢基质的预处理.表面清洁度的评定试验.水溶性亚铁离子的现场滴定测定方法
BS 7079-B12-2003 钢基涂漆前的制备.表面洁净度的评定方法.水溶性铁离子滴定测定的现场试验法
BS ISO 17560:2002 表面化学分析.再生离子质量光谱测定.硅中硼的深仿形分析法
BS EN 903-1994 水质.用测量亚甲兰指数MBAS测定离子表面活化剂
法国标准化协会，关于表面 离子的标准
NF X21-070-2010 表面化学分析.二次离子质谱.用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度.
NF X21-066-2009 表面化学分析.次级离子质谱分析法.用多δ层参考物质对硅进行深度校准的方法
NF X21-064-2009 表面化学分析.次级离子质谱测定法.静态次级离子质谱测定法中相对强度数值范围的重复性和稳定性
NF X21-051-2006 表面化学分析.再生离子质量的光谱测定.硅中硼的深仿形方法
NF T35-502-5-2005 涂装油漆和有关产品前钢材预处理.表面清洁度的评定试验.第5部分:涂装前钢材表面上氯化物测定(离子探测管法)
NF T35-502-12-2005 涂装油漆和有关产品前钢材预处理.表面清洁度评定试验.第12部分:水溶铁离子滴定测定的现场方法
韩国标准，关于表面 离子的标准
KS M ISO 8502-12:2008 涂料和相关产品使用前钢衬底的制备.表面清洁度评定试验.第12部分:滴定测定水溶铁离子的现场试验方法
KS D ISO 18114:2005 表面化学分析.次级离子质谱法.测定离子注入标样中的相对灵敏度系数
KS D ISO 22048:2005 表面化学分析.静态次生离子质谱法的信息格式
KS D ISO 20341:2005 表面化学分析.次级离子质谱法.多δ层标准材料深度溶解参数的估算方法
KS D ISO 17560:2003 表面化学分析.再生离子质量的光谱测定.硅中硼的深仿形方法
KS D ISO 14237:2003 表面化学分析.次级离子质谱法.使用非均一掺杂材料的硅中硼原子的浓度测定
KS M ISO 8502-5:2002 涂料和有关产品使用前钢衬底的制备.表面清洁度评定试验.第5部分:涂覆前已处理钢表面上氯化物的测量(离子检测管法)
德国标准化学会，关于表面 离子的标准
DIN EN 1890-2006 表面活性材料.用环氧乙烷冷凝的非离子表面活性剂的浊点的测量
DIN EN ISO 8502-5:2005 涂装油漆和有关产品前钢材预处理.表面清洁度的评定试验.第5部分:涂装前钢材表面上氯化物测定(离子探测管法)
DIN EN ISO 8502-12:2005 涂装油漆和有关产品前钢材预处理.表面清洁度的评定试验.第12部分:水溶性铁离子的现场滴定测定方法
DIN EN 12139-1999 表面活性剂.用HPlC和GPC法测定非离子表面活性材料(EO-复合体)中聚乙二醇的总含量
欧洲标准化委员会，关于表面 离子的标准
EN 1890-2006 表面活性材料.用环氧乙烷冷凝的非离子表面活性剂的浊点的测量
EN ISO 8502-5:2004 涂装油漆和有关产品前钢材预处理.表面清洁度的评定试验.第5部分:涂装前钢材表面上氯化物测定(离子探测管法) ISO 8502-5-1998
EN ISO 8502-12:2004 涂料和有关产品使用前的钢底材的处理.表面清洁度的评定试验.第12 部分:水溶性铁离子的现场滴定法 ISO 8502-12-2003
EN 12582-1999 表面活性材料.按照用HPLC/ELSD法克分子质量测定非离子表面活性材料(乙氧基)中聚乙二醇总含量的测定
EN 903-1993 水质.用测量亚甲基兰指数MBAS测定离子表面活化剂(ISO 7875-1-1984修改件)
机械工业部，关于表面 离子的标准
JB/T 7502-1994 离子镀膜前零件表面质量控制技术要求
澳大利亚标准协会，关于表面 离子的标准
AS ISO 17560:2006 表面化学分析．次级离子质谱测量法．硅中注入硼的深度分布分析法
AS ISO 14237:2006 表面化学分析．次级离子质谱测量法．使用均一的绝缘材料测定硅中的硼原子浓度
AS ISO 18114:2006 表面化学分析．次级离子质谱法．植入离子的参考材料的相对灵敏系数的测定
AS ISO 22048:2006 表面化学分析．静止次级离子质谱测量法用信息格式
