本专题涉及光谱全反射的标准有20条。
国际标准分类中，光谱全反射涉及到分析化学、半导体材料、农业和林业。
在中国标准分类中，光谱全反射涉及到基础标准与通用方法、半金属与半导体材料综合、家畜、家禽、农药管理与使用方法、半金属及半导体材料分析方法。
国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会，关于光谱全反射的标准
GB/T 40110-2021 表面化学分析 全反射X射线荧光光谱法（TXRF）测定硅片表面元素污染
国家质检总局，关于光谱全反射的标准
GB/T 30701-2014 表面化学分析 硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定
GB/T 24578-2009 硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法
GB/T 24578-2015 硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法
天津市市场监督管理委员会，关于光谱全反射的标准
DB12/T 1015-2020 奶牛养殖场粪水中氮磷的测定 中红外衰减全反射光谱法
农业农村部，关于光谱全反射的标准
NY/T 3284-2018 农药固体制剂傅里叶变换衰减全反射红外光谱条集操作规程
英国标准学会，关于光谱全反射的标准
BS PD ISO/TS 18507-2015 表面化学分析. 全反射X射线荧光光谱法在生物和环境分析中的使用
BS PD ISO/TS 18507-2015 表面化学分析. 全反射X射线荧光光谱法在生物和环境分析中的使用
BS ISO 14706-2014 表面化学分析.采用全反射X射线荧光(TXRF)光谱法对硅片表面元素污染物的测定
BS ISO 14706-2014 表面化学分析.采用全反射X射线荧光(TXRF)光谱法对硅片表面元素污染物的测定
BS ISO 17331-2004+A1-2010 表面化学分析.从硅片工作标准物质表面采集元素的化学方法及其全反射X射线荧光光谱(TXRF)法的测定
BS ISO 14706-2000 表面化学分析.采用全反射X射线荧光(TXRF)光谱法对硅片表面元素污染物的测定
国际标准化组织，关于光谱全反射的标准
ISO/TS 18507:2015 表面化学分析 - 全反射X射线荧光光谱在生物和环境分析中的应用
ISO/TS 18507-2015 表面化学分析. 全反射X射线荧光光谱法在生物和环境分析中的使用
ISO 14706:2014 表面化学分析 - 通过全反射X射线荧光（TXRF）光谱测定硅晶片上的表面元素污染
ISO 17331-2004/Amd 1-2010 表面化学分析.硅片工作标准物质表面元素收集及其全反射X射线荧光光谱测定的化学方法.修改件1
ISO 17331:2004 表面化学分析——硅片工作标准物质表面元素收集的化学方法及其全反射X射线荧光光谱测定
ISO 17331-2004 表面化学分析.从硅片工作基准材料表面采集元素的化学方法及其全反射X射线荧光光谱法的测定
韩国标准，关于光谱全反射的标准
KS D ISO 14706-2003 表面化学分析.用全反射X射线荧光光谱法测定硅圆片表面主要污物
KS D ISO 14706-2003 表面化学分析.用全反射X射线荧光光谱法测定硅圆片表面主要污物
