本专题涉及粉末直接的标准有24条。
国际标准分类中，粉末直接涉及到核能工程、粒度分析、筛分、陶瓷。
在中国标准分类中，粉末直接涉及到陶瓷、玻璃综合、建筑卫生陶瓷、核材料、核燃料及其分析试验方法、钢铁产品综合。
美国材料与试验协会，关于粉末直接的标准
ASTM C1865-18 用直接燃烧红外分光光度计测定氧化钚粉末中碳和硫含量的标准试验方法
ASTM C1408-16 通过直接燃烧 - 红外检测方法对氧化铀粉末和颗粒中的碳（总计）的标准测试方法
ASTM C1408-2016 用直接燃烧红外探测法测定氧化铀粉末和颗粒中总碳量的标准试验方法
ASTM C1408-09 通过直接燃烧 - 红外检测方法对氧化铀粉末和颗粒中的碳（总计）的标准测试方法
ASTM C1408-2009 用直接燃烧红外探测法测定氧化铀粉末和颗粒中总碳量的标准试验方法
ASTM C1408-98(2004) 通过直接燃烧 - 红外检测方法对氧化铀粉末和颗粒中的碳（总计）的标准测试方法
ASTM C1408-98 通过直接燃烧 - 红外检测方法对氧化铀粉末和颗粒中的碳（总计）的标准测试方法
ASTM C1408-1998(2004) 用直接燃烧红外探测法测定氧化铀粉末和颗粒中总碳量的标准试验方法
ASTM C1408-1998 用直接燃烧红外探测法测定氧化铀粉末和颗粒中总碳量的标准试验方法
日本工业标准调查会，关于粉末直接的标准
JIS Z8835-2016 用于粉末层临界状态线 (CSL) 和墙屈服轨迹 (WYL) 的直接剪切试验法
德国标准化学会，关于粉末直接的标准
DIN EN 15991-2016 陶瓷原料和基本材料的试验.电热蒸发(ETV)电感耦合等离子体发射光谱法(ICP-OES)直接测定碳化硅粉末和颗粒中杂质质量分数;德文版本EN 15991-2015
DIN EN 15979-2011 陶瓷原料和基本材料的测试.直流电弧激发发射光谱法直接测定碳化硅粉末和颗粒中杂质质量分数;德文版本EN 15979-2011
DIN EN 15991-2011 陶瓷原料和基本材料的试验.电热蒸发(ETV)电感耦合等离子体发射光谱法(ICP-OES)直接测定碳化硅粉末和颗粒中杂质质量分数;德文版
DIN 51096-2008 陶瓷原材料和基本材料的测试.用感应耦合等离子体光学发射光谱测定法(ICP OES)和电热蒸馏器(ETV)直接测定碳化硅粉末和颗粒中杂质的质量分率
英国标准学会，关于粉末直接的标准
BS EN 15991-2015 陶瓷原料和基本材料的测试.电热蒸发(ETV)电感耦合等离子体发射光谱法(ICP-OES)直接测定碳化硅粉末和颗粒中杂质质量分数
BS EN 15991-2015 陶瓷原料和基本材料的测试.电热蒸发(ETV)电感耦合等离子体发射光谱法(ICP-OES)直接测定碳化硅粉末和颗粒中杂质质量分数
BS EN 15979-2011 陶瓷原料和基本材料的测试.直流电弧激发发射光谱法直接测定碳化硅粉末和颗粒中杂质质量分数
BS EN 15991-2011 陶瓷原料和基本材料的测试.电热蒸发(ETV)电感耦合等离子体发射光谱法(ICP-OES)直接测定碳化硅粉末和颗粒中杂质质量分数
欧洲标准化委员会，关于粉末直接的标准
EN 15991-2015 陶瓷和基本材料的检验.通过电感耦合等离子体光学发射光谱法(ICP OES)与电热汽化(ETV)的粉末和碳化硅的颗粒杂质质量分数的直接测定
EN 15991-2015 陶瓷和基本材料的检验.通过电感耦合等离子体光学发射光谱法(ICP OES)与电热汽化(ETV)的粉末和碳化硅的颗粒杂质质量分数的直接测定
EN 15979-2011 陶瓷原料和基本材料的测试.直流电弧激发发射光谱法直接测定碳化硅粉末和颗粒中杂质质量分数
EN 15991-2011 陶瓷原料和基本材料的测试.电热蒸发(ETV)电感耦合等离子体发射光谱法(ICP-OES)直接测定碳化硅粉末和颗粒中杂质质量分数
法国标准化协会，关于粉末直接的标准
NF B41-106-2011 陶瓷原料和基本材料的测试.电热蒸发(ETV)电感耦合等离子体发射光谱法(ICP OES)直接测定碳化硅粉末和颗粒中杂质质量分数.
NF B41-105-2011 陶瓷原料和基本材料的试验.直流电弧激发的光谱仪(OES)对碳化硅粉末和颗粒内杂质质量分数的直接测定
