本专题涉及硅片表面峰的标准有29条。
国际标准分类中，硅片表面峰涉及到金属材料试验、分析化学、半导体材料、频率控制和选择用压电器件与介质器件。
在中国标准分类中，硅片表面峰涉及到金属物理性能试验方法、基础标准与通用方法、半金属及半导体材料分析方法、半金属、半金属与半导体材料综合、化学、元素半导体材料。
国家市场监督管理总局、中国国家标准化管理委员会，关于硅片表面峰的标准
GB/T 40279-2021 硅片表面薄膜厚度的测试 光学反射法
GB/T 40110-2021 表面化学分析 全反射X射线荧光光谱法（TXRF）测定硅片表面元素污染
GB/T 39145-2020 硅片表面金属元素含量的测定 电感耦合等离子体质谱法
国家质检总局，关于硅片表面峰的标准
GB/T 24578-2015 硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法
GB/T 30860-2014 太阳能电池用硅片表面粗糙度及切割线痕测试方法
GB/T 30701-2014 表面化学分析 硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定
GB/T 29505-2013 硅片平坦表面的表面粗糙度测量方法
GB/T 6621-2009 硅片表面平整度测试方法
GB/T 24577-2009 热解吸气相色谱法测定硅片表面的有机污染物
GB/T 24578-2009 硅片表面金属沾污的全反射X光荧光光谱测试方法
，关于硅片表面峰的标准
KS C IEC 62276-2019 用于表面声波（锯）的单晶硅片器件应用 - 规格和测量方法
KS D ISO 14706-2003(2018) 表面化学分析-全反射X-射线荧光分析仪测定硅片表面元素杂质
国际电工委员会，关于硅片表面峰的标准
IEC 62276:2016 用于表面声波（锯）的单晶硅片器件应用 - 规格和测量方法
IEC 62276-2016 用于表面声波（锯）的单晶硅片器件应用 - 规格和测量方法
IEC 62276:2012 用于表面声波（锯）的单晶硅片器件应用 - 规格和测量方法
英国标准学会，关于硅片表面峰的标准
BS ISO 14706-2014 表面化学分析.采用全反射X射线荧光(TXRF)光谱法对硅片表面元素污染物的测定
BS ISO 14706-2014 表面化学分析.采用全反射X射线荧光(TXRF)光谱法对硅片表面元素污染物的测定
BS ISO 17331-2004+A1-2010 表面化学分析.从硅片工作标准物质表面采集元素的化学方法及其全反射X射线荧光光谱(TXRF)法的测定
BS ISO 14706-2000 表面化学分析.采用全反射X射线荧光(TXRF)光谱法对硅片表面元素污染物的测定
国际标准化组织，关于硅片表面峰的标准
ISO 17331-2004/Amd 1-2010 表面化学分析.硅片工作标准物质表面元素收集及其全反射X射线荧光光谱测定的化学方法.修改件1
ISO 17331:2004 表面化学分析——硅片工作标准物质表面元素收集的化学方法及其全反射X射线荧光光谱测定
ISO 17331-2004 表面化学分析.从硅片工作基准材料表面采集元素的化学方法及其全反射X射线荧光光谱法的测定
日本工业标准调查会，关于硅片表面峰的标准
JIS K0160-2009 表面化学分析.从硅片加工基准材料的表面上收集元素和化学方法及其通过总反射X射线荧光(TXRF)分光光度法的测定
美国材料与试验协会，关于硅片表面峰的标准
ASTM F672-88(1995)e1 用扩展电阻探针测量垂直于硅片表面电阻率分布的标准试验方法
ASTM F950-98 用角抛光和缺陷蚀刻法测量机械加工硅片表面晶体损伤深度的标准试验方法
ASTM F950-1998 用角抛光和疵点侵蚀加工法测量机械加工硅片表面晶体损坏深度的试验方法
ASTM F523-93(1997) 抛光硅片表面的肉眼检查的标准实施规程
ASTM F1810-97 硅片中优先蚀刻或修饰表面缺陷计数的标准试验方法
ASTM F1810-1997 择优统计硅片侵蚀或表面缺陷的标准试验方法
