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GB/T 5252-2020   锗单晶位错密度的测试方法

GB/T 5252-2020 锗单晶位错密度的测试方法

发布时间:2024-06-04 09:05:58 更新时间:2025-02-23 16:43:27

中析研究所涉及专项的性能实验室,在GB/T 5252-2020 锗单晶位错密度的测试方法服务领域已有多年经验,可出具CMA和CNAS资质,拥有规范的工程师团队。中析研究所始终以科学研究为主,以客户为中心,在严格的程序下开展检测分析工作,为客户提供检测、分析、还原等一站式服务,检测报告可通过一键扫描查询真伪。

国家标准《锗单晶位错密度的测试方法》由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,TC203SC2(全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会)执行,主管部门为国家标准化管理委员会。

主要起草单位有研光电新材料有限责任公司、北京国晶辉红外光学科技有限公司、国合通用测试评价认证股份公司、云南临沧鑫圆锗业股份有限公司、中国电子科技集团公司第四十六研究所、广东先导稀材股份有限公司、中锗科技有限公司、义乌力迈新材料有限公司。

主要起草人张路 、冯德伸 、马会超 、普世坤 、姚康 、刘新军 、郭荣贵 、向清华 、韦圣林 、黄洪伟文 。

全部代替GB/T 5252-2006

基础信息

标准号:  GB/T 5252-2020

发布日期:  2020-06-02

实施日期:   2021-04-01

全部代替标准:   GB/T 5252-2006

标准类别:  方法

中国标准分类号:  H21

国际标准分类号:   77.040

77 冶金
77.040 金属材料试验

归口单位:  全国半导体设备和材料标准化技术委员会

执行单位:  全国半导体设备和材料标准化技术委员会

主管部门:  国家标准化管理委员会

代替以下标准

全部代替 GB/T 5252-2006

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检测资质
CMA认证

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CNAS认证

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合作客户
长安大学
中科院
北京航空航天
合作客户
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